หลอด ExciRay
ระบบหลอด ExciRay ของ GEW ใช้หลอดไดอิเล็กทริกแบริเออร์ดิสชาร์จ (DBD) เพื่อผลิตรังสีอัลตราไวโอเลตสุญญากาศกึ่งโมโนโครมาติก โดยทั่วไปจะอยู่ที่ 172 นาโนเมตร รังสีดังกล่าวถูกนำมาใช้โดยทั่วไปในกระบวนการเคลือบผิว ทำให้พื้นผิวด้านและเรียบเนียน การปรับเปลี่ยนแรงเสียดทานผิวเพื่อให้มีการยึดเกาะที่ดีขึ้น หรือเพื่อการทำความสะอาดผิว เหมาะสำหรับอุตสาหกรรมอุปกรณ์อิเลคทรอนิคส์ (เซมิคอนดักเตอร์)และอุตสาหกรรมการแพทย์
GEW ได้ออกแบบหลอด ExciRay ให้มีดีไซน์ที่คล้ายกับ NUVA2 สามารถผลิตได้ยาวสูงสุดถึง 255 ซม. และสามารถผสมผสานให้เข้ากับแอปพลิเคชันของคุณในรูปแบบที่กำหนดเองได้ รวมถึงให้ตรงตามข้อกำหนดสำหรับการควบคุมก๊าซไนโตรเจน
นอกจากนี้หลอด ExciRay ยังสามารถใช้งานร่วมกับระบบ UV ของ GEW ได้อย่างไร้รอยต่อ เพื่อใช้ในกระบวนการเจลลิ่งหรือการทำแห้งขั้นตอนสุดท้าย เพื่อให้ GEW สามารถหาโซลูชันลดความเงาของสารเคลือบสำหรับกระบวนการผลิตของคุณ ด้วยทีมวิศวกรที่มากประสบการณ์ที่พร้อมปฏิบัติตามมาตรฐานความปลอดภัยระดับสากล
*โบรชัวร์นี้ตีพิมพ์เป็นภาษาอังกฤษ
กระบวนการลดความเงาด้วย ExciRay
กระบวนการที่ใช้ในการลดความเงาของผิวเคลือบสำหรับการใช้งานประเภทต่างๆ รวมถึงการลามิเนตนั้นเหมาะสำหรับ:
- พื้นและเฟอร์นิเจอร์, พื้น PVC, แผ่นไม้, ชิ้นส่วนพลาสติก ฯลฯ:
- เจลลิ่ง: เป็นกระบวนการทำแห้งโดยจะช่วยเพิ่มความหนืดให้กับสารเคลือบผิว, ช่วยหยุดการเกิดรอยพับเล็กๆ สามารถลดความเงาบนพื้นผิวเคลือบให้อยู่ในระดับ 85° และช่วยทำให้ผิวสัมผัสนุ่มนวลขึ้น โดยทั่วไปไม่ต้องใช้ก๊าซเฉื่อย (inerted)
- กระบวนการลดความเงา: รังสี 172 นาโนเมตรจากหลอด ExciRay จะช่วยรักษาพื้นผิวเคลือบด้านบนและการหดตัวทำให้เกิดรอยพับขนาดเล็ก ๆ ซึ่งส่งผลให้พื้นผิวมีความด้าน กระบวนการนี้ต้องใช้ก๊าซเฉื่อย (inerted)
- การแห้งตัวขั้นสุดท้าย: พลังงานจากหลอดเมอคิวรี่หรือหลอดแอลอีดีจะช่วยทำให้สารเคลือบแห้งตัวได้ดียิ่งขึ้นในทุกชั้นของสารเคลือบ สิ่งนี้สามารถเลือกใช้ก๊าซเฉื่อย (inerted) ได้ขึ้นอยู่กับความต้องการการใช้งานให้ตรงกับของแอปพลิเคชัน
ประโยชน์ของ ExciRay
- ลดความเงาได้ถึงระดับที่มีค่า 1.2 ที่มุม 60 องศา
- สัมผัสนุ่ม
- ไม่จำเป็นต้องใช้สารเพิ่มความด้านเพื่อเพิ่มความทนทานในการเคลือบผิว และช่วยทำให้กระบวนการทำงานง่ายขึ้น
- เปิด / ปิดการเคลือบด้านได้ทันที
- ใช้ร่วมกับขั้นตอน pre-gelling และการทำแห้งขั้นสุดท้าย
- ง่ายต่อการเปลี่ยนหลอดและการบำรุงรักษา
- ใช้ร่วมกับชุดแหล่งจ่ายพลังงานไฟฟ้า Rhino ของ GEW
สเปคของ ExciRay
| กำลังไฟฟ้าสูงสุด | 5 วัตต์/เซนติเมตร |
| ความยาวคลื่นสูงสุด | 172 นาโนเมตร* |
| ความเข้มแสงสูงสุดที่จุดโฟกัส | 65 มิลลิวัตต์ / ตารางเซนติเมตร |
| ความยาวสูงสุด | 255 เซนติเมตร |
| ขนาดมาตรฐาน | กว้าง 145 มิลลิเมตร x สูง 425 มิลลิเมตร |
| ระบายความร้อน | ก๊าซไนโตรเจน |
| มาตราฐานขณะปฏิบัติงาน | 40 องศาเซลเซียส (104 องศาฟาเรนไฮต์) |
| มาตรฐานความชื้นสูงสุด | ไม่มีการกลั่นตัวของหยดน้ำ |
รูปแบบการใช้ ExciRay
การใช้งาน ExciRay ในแต่ละครั้งนั้น จะถูกปรับแต่งให้เหมาะสมกับความต้องการของลูกค้าแต่ละราย ผลิตภัณฑ์ของ GEW สามารถใช้งานร่วมกันเพื่อครอบคลุมกระบวนการทั้งหมด ตั้งแต่ขั้นตอนการเตรียม pre-gelling ไปจนถึงกระบวนการเคลือบผิว mattification และกระบวนการแห้งตัวขั้นสุดท้าย
ในตัวอย่างด้านล่างนี้ GEW ใช้ LeoLED ความยาวคลื่น 395 นาโนเมตร สำหรับขั้นตอน pre-gelling, ExciRay สำหรับกระบวนการเคลือบผิวให้ด้าน, และใช้ระบบNUVA2 ที่แห้งด้วยหลอดเมอคิวรี่ของ GEW สำหรับกระบวนการแห้งตัวขั้นสุดท้าย
- Pre-gelling: 395 นาโนเมตร ด้วยรุ่น LeoLED
- กระบวนการลดความเงา: 172 นาโนเมตร ด้วยรุ่น ExciRay
- กระบวนการขั้นสุดท้าย: หลอดเมอคิวรี่ ด้วยรุ่น NUVA2
- แผงควบคุมการปรับความสูง
- ตู้ควบคุมไนโตรเจนอัตโนมัติเต็มรูปแบบ
- ห้องที่ใช้กับก๊าซไนโตรเจนพร้อมหัวฉีดแบบปรับได้
- ม่านลำแสงนิรภัย
*โบรชัวร์นี้ตีพิมพ์เป็นภาษาอังกฤษ
เครื่องสำหรับห้องปฎิบัติการแบบกำหนดเอง
ExciRay สามารถใช้ร่วมกับเครื่องทำแห้งด้วยแสงยูวีสำหรับใช้ในห้องแลปเพื่อการควบคุมคุณภาพและการวิจัยพัฒนา
การใช้งานร่วมกันของหลอดเมอคิวรี่ หลอดแอลอีดี และ หลอด Excimer มีทั้งแบบมีหรือไม่มีก๊าซไนโตรเจน
เครื่องทำแห้งสำหรับห้องปฏิบัติการมีให้เลือกหลายขนาดทั้งหน้ากว้างและช่วงความเร็ว
ไปที่หน้า “เครื่องทำให้แห้งสำหรับห้องปฎิบัติการ” เพื่อดูข้อมูลเพิ่มเติม
พูดคุยตรงกับตัวแทนจำหน่าย
ผลิตภัณฑ์เหล่านี้ใช้หลอด excimer (หรือ exciplex) ไดอิเล็กทริกแบริเออร์ดิสชาร์จ (DBD) เป็นแหล่งกำเนิดแสงยูวี ในการผลิตรังสีอัลตราไวโอเล็ตสุญญากาศ (VUV) GEW สามารถจัดหารูปแบบและความกว้างที่หลากหลายเพื่อให้เหมาะกับการใช้งานประเภทต่างๆ
ต้องการข้อมูลเพิ่มเติมเกี่ยวกับ ExciRay กรุณาติดต่อเราโดยผ่านช่องทางด้านล่างนี้
